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芯片制造对水质的要求是十分苛刻的，对于大众来说，平时接触的自来水（饮用水）的浑浊度小于1NTU（根据现行《生活饮用水卫生标准》GB5749-2022）。这样的自来水在肉眼看来，就已经非常干净了。但是，这在电子行业，尤其是芯片制造领域，还差得很远很远。在芯片生产过程看来，自来水里面杂质多到什么程度？就好比是一锅粥！所以，芯片行业需要对生产用水进行苛刻的纯化处理。
第一层次——去离子水：采用物理、化学方法，去除溶于水中的电解质，获得电阻率在0.1~10MΩ·cm的水（真正纯净的水可被视为绝缘体，生活中的水导电，是因为其中有杂质）。这个过程去除了水中的电解质，但溶于水中的非电解质（如有机物、微生物、颗粒物、溶解性气体等）大部分未被去除。
第二层次——纯水：采用物理、化学方法，去除了水中的几乎全部电解质与非电解质，且水中阳离子和阴离子、有机物、颗粒物、微生物等含量受到一定控制。此时，纯水的电阻率在10~18.2MΩ·cm（25℃），可以被视其为绝缘体了。
第三层次——超纯水：如果将水中阳离子、阴离子、有机物、颗粒物、微生物都进行严格控制，这还不算完，再对水中溶解气体进行严格控制，此时水的电阻率达到18.2MΩ·cm（25℃）以上（接近理论值18.25MΩ·cm，25℃时）。
莱特莱德超纯水设备结合膜分离技术，利用反渗透结合EDI装置制备超纯水，出水电阻率可达18.2MΩ.cm（25℃），满足半导体生产用水的需求。同时，设备还配备了反渗透预脱盐技术，以确保设备的出水水质。同时，EDI处理装置产生的废水较少，不会污染环境，具有较高的环境效益和经济效益，具有广阔的发展前景。
超纯水设备具有连续出水、无需酸碱再生和无人值守、安装简便、操作方便等优势，出水水质符合电池用水相关标准，为半导体用水保驾护航。随着超纯水设备技术不断*，开启了各行业生产发展的新局面。许多企业在生产过程中对水质纯度有不同的要求，并得到了广泛的应用，如清洗设备用水、精密产品生产用水、检测用水等。
